刊名： 应用光学
Journal of Applied Optics
主办： 中国兵工学会;中国兵器工业第二0五研究所
周期： 双月
出版地：陕西省西安市
语种： 中文;
开本： 大16开
ISSN： 1002-2082
CN： 61-1171/O4
复合影响因子： 0.679
综合影响因子： 0.471
历史沿革：
现用刊名：应用光学
创刊时间：1980
该刊被以下数据库收录：
CA 化学文摘(美)(2011)
SA 科学文摘(英)(2011)
Pж(AJ) 文摘杂志(俄)(2011)
核心期刊：
中文核心期刊(2008)
期刊荣誉：
Caj-cd规范获奖期刊 |
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《应用光学》杂志投稿及征稿简则
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《应用光学》杂志创刊于1980年，上级主管单位为中国兵器工业集团公司，主办单位为中国兵工学会和中国兵器工业第二〇五研究所，是面向国内外公开发行的学术性技术类双月刊。
《应用光学》2006年3月被美国《化学文摘》即（CA）收录（CODEN 码为 YGUAE4），4月被收录为“中国科技核心期刊”，7月OA网站开通、实现了远程编辑操作，8月万方数据统计期刊影响因子达到0.32，12月在陕西省科技期刊审读评优活动中荣获优秀期刊奖。《应用光学》一直受到国外著名检索机构（网络）的重视，在国际上也有了一定的影响力。
本刊的办刊宗旨是：促进光电子技术学科发展，繁荣学术交流，密切跟踪国内外高新技术的研究动态，全面反映光电子技术在国内外的发展状况、研究水平以及在国防与国民经济中的应用情况；坚持学术品位，倡导科学研究，贴近知识创新工程的实践，重点报道国内外光电子技术领域的新理论、新技术和新方法、新产品以及发展动态。
本刊重点报道国内外光电子技术领域最新研究动态、光电系统工程、单兵光电装备、光学系统设计、微光夜视技术、红外应用技术、激光应用技术、光学计量及检测技术、自适应光学、纤维光学、信息光学、薄膜光学、光电跟踪、光电器件、光学材料、光学工艺及设备、特种光源等研究论文。
本刊征集我国企事业单位、民营企业/公司的形象宣传、光电仪器/器件产品广告以及各种相关信息等，旨在沟通企事业单位和研发单位与广大用户之间的联系。这是《应用光学》应负有的社会责任。广告经营许可证：6101004005045。
本刊的读者对象是从事光电子技术领域科研、生产、管理的专业科技人员和相关大专院校师生
投稿须知
1.文稿应具有科学性、前瞻性、逻辑性、实用性、指导性和可读性。
2.文稿务求论点明确，论据可靠，数字准确，重点突出，层次清楚，文字精炼，引用资料请附参考文献。全文（包括中、英文摘要、图、表和参考文献）撰写的文章字数以2500-4500字为宜。
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5.文责自负。依照《著作权法》的有关规定，编辑部可以对来稿作文字修改、删节，凡涉及原意的重大修改，请作者考虑。
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